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立式管式爐爐體垂直安裝在支撐架上,開啟式爐體結構方便取放爐管,采用獨特的設計能夠實現在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫,此款管式爐可以四面加熱,溫場更加均勻,立式結構使得氣體排放更加順暢,配合真空系統和氣路系統,可實現立式CVD工藝,可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。立式管式爐主要適用于碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理、薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗。
主要特點:
1、開啟式結構,方便取放爐管;
2、預留了真空、氣路快速接口,可配合真空混氣系統使用;
3、加熱元件圓周式布置,加熱更加均勻;
4、可通過浮子流量計或質子流量計控制氣體的流速;
5、超溫報警井斷電調電保護,操作安全可靠。
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