獲取報價
即刻留言 
添加微信咨詢報價服務熱線
177-3714-9370
熱銷產品推薦PRODUCTS
CVD特點
作者:科佳電爐 來源：原創 發表時間：2014-04-25 15:20:54
CVD系統產品的特點：
1 CVD系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
3 CVD系統使用計算機控制，可以設置多種生長參數
4 CVD系統可以制備高質量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動力學過程
5 CVD系統沉積效率高；薄膜的成分準確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實現厚膜沉積且能大量生產
CVD技術特點：
具有淀積溫度低、薄膜成分和厚度易于控制、均勻性和重復性好、臺階覆蓋優良、適用范圍廣、設備簡單等一系列優點
CVD方法幾乎可以淀積集成電路工藝中所需要的各種薄膜，例如摻雜或不摻雜的SiO2、多晶硅、非晶硅、氮化硅、金屬(鎢、鉬)等
在線留言
直銷廠家
價格實惠
質量靠譜
瀏覽了這篇文章的用戶還瀏覽了:
