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產品型號:KJ-T1200-S60K-4C
主要用途:化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。
KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成 ,最高溫度可以達到1200度,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計,可以對多種氣體進行準確的混氣,然后導入到管式爐內部??焖偻嘶馉t爐管兩端安裝真空法蘭,真空度用分子泵可以到10-5Torr,機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得最快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s,是低成本快速熱處理的理想爐子。
產品優勢
爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m
三溫區獨立控溫,可以在加熱區內形成溫度梯度或是形成較長的恒溫區域
控溫系統采用PID方式調節,可以設置30段升降溫程序,控溫精度可以達到±1℃
產品名稱 | 四路高溫真空CVD設備 | |
產品型號 | KJ-T1200-S60K-4C | |
工作溫度 | 1100°C | |
最高溫度 | 1200°C | |
加熱速率 | 建議:0- 10°C/min {可達0-20℃/min} | |
加熱區 | 三溫區 | |
加熱區長度 | 200+350+200mm | |
控溫精度 | ±1°C | |
爐管直徑 | OD60mm | |
爐管長度 | 大約1200mm-1400mm | |
真空法蘭 | 兩個不銹鋼密封法蘭,法蘭上已經安裝數字式真空顯示計,和閥門通過機械泵真空壓力可以達到5x10-2 torr,泄漏率可達6 mtorr/min | |
溫控 | 智能PID多段程序控溫 | |
加熱曲線 | 30段可編程 | |
功率 | 4KW | |
電壓 | 220V,50HZ,單相 | |
質子流量計 | 4路精密質子流量計:數字顯示、氣體流量自動控制。 MFC 1范圍: 0~100 sccm MFC 2范圍: 0~200 sccm MFC 3范圍: 0~200 sccm MFC 4范圍: 0~500 sccm 氣路:4路 流量精度: 0.2% 進氣和出氣接口: 1/4" 卡套 一個混氣罐。 每路氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制。 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量。 |
質子混氣系統1臺、雙旋機械泵1臺、K型熱電偶1支、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套、不銹鋼爐鉤1、剛玉爐塞2對、高溫手套1副、剛玉坩堝2個、氫氣檢漏器1個、說明書1份
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鄭州科佳電爐有限公司是一家專業從事電爐產品的研發、生產與銷售的高新技術企業。我公司產品具有升溫快、節能、溫控精度高、保溫性能好、微電腦控制、可編程全自動升溫降溫、爐壁溫度接近室溫、使用壽命長等特點;產品型號達到上百種,并可根據客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業做高溫燒結、金屬退火、氣氛還原和質量檢測之用,廣泛應用于陶瓷、化工、電子、冶金、新材料開發、機械、耐火材料、建材、特種材料等領域的實驗和生產,受到廣大新老用戶的一致好評。
主要產品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺車爐、退火爐、升降爐、微波燒結爐、烤瓷爐等標準及非標實驗電爐和工業電爐,并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
科佳鄭重承諾:每臺電爐出廠前均經過嚴格的質量檢測以及高溫測試,為客戶提供放心可靠的產品?。?!
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