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產品型號:KJ-T1200-S6044-LK-Z
主要用途:滑道式PECVD系統由PT-1200T管式爐加熱系統、真空系統、質量流量計供氣系統、等離子射頻電源系統組成。廣泛應用于沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)等。
產品優勢
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
溫控系統采用PID智能化程序控溫,自整定功能并可編制多段升降溫程序
產品名稱 | 滑道式PECVD系統 |
滑軌管式爐部分 | |
產品型號 | KJ-T1200-S6044-LK-Z |
加熱區長度 | 440mm |
爐管直徑 | 直徑60mm |
工作溫度 | ≦1100℃ |
最高溫度 | 1200℃ |
測溫元件 | K型熱電偶 |
溫控系統 | PID微電腦可編程自動控制 |
控溫精度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
升溫速率 | 0-20ºC/min |
加熱元件 | 高電阻電熱合金絲OCr27A17Mo |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ |
滑軌設計 | 能實現快速升降溫 |
爐膛材料 | 采用多晶纖維爐膛材料,材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡 |
密封系統 | 該爐爐管與法蘭之間采用O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好 |
爐 管 | 高純石英管 |
法 蘭 | 不銹鋼法蘭,方便拆卸,放取材料 |
爐殼溫度 | ≤45℃ |
真空系統部分 | |
名稱 | 高真空分子泵組 |
主要參數 | 真空泵極限真空度10-3 pa(包含KF25接口和可移動箱體) |
真空計測量范圍 | 其測量范圍為1×105--1×10-5pa |
氣路系統部分 | |
名稱 | 四路質量流量計 |
氣路 | 四路 |
流量控制 | 每路氣體含有針閥單獨控制 |
流量計 | 質量流量計 |
流量范圍 | 0-1000sccm可調 |
工作環境溫度 | 5℃-45℃ |
等離子電源系統 | |
匹配功率范圍 | 0-500W |
工作頻率 | 13.56MHZ+0.005% |
正常工作反射功率 | <3W |
匹配時間 | <3S |
傳輸效率 | >90% |
匹配器電源 | AC220V/50-60HZ |
輸入連接器 | N型 |
輸出連接器 | UHF |
控制模式 | 手動/自動 |
可設預置點數 | 7 |
認證 | ISO認證、CE認證 |
售后服務 | 質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍) |
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