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產品型號:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S
主要用途:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S石墨烯生長爐是一種特殊的CVD系統,是專門為在金屬箔(像銅箔、鋁箔等)上生長薄膜而設計,廣泛應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究上,特別適用于碳納米管、碳納米線、石墨烯的生長。
KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生長爐是一種特殊的CVD系統,是專門為在金屬箔(像銅箔、鋁箔等)上生長薄膜而設計;廣泛應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究上,特別適用于碳納米管、碳納米線、石墨烯的生長。該設備由KJ-1200T管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成 ,最高溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。
產品優勢
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表,能進行30段程序控溫,移相觸發、可控硅控制
產品名稱 |
1200℃石墨烯生長爐 |
產品型號 |
KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S |
管式爐 |
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加熱區長度 |
440mm |
恒溫區長度 |
150 (+/-1 ℃) |
工作溫度 |
1100℃(此溫度為長期加熱溫度) |
最高溫度 |
1200℃ |
爐管尺寸 |
Φ60×1440mm |
等離子射頻電源 |
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輸出功率 |
5 ~500W ± 1% . |
射頻頻率 |
13.56 MHz ±0.005% . |
反射功率 |
約200W |
阻抗匹配 |
自動 |
真空泵機組(雙極旋片泵) |
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真空度 |
10-3torr |
波紋管 |
KFD25 快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連. |
質量流量計 |
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四通道控制 |
精度0.02% 、數字顯示、自動控制、 一個混氣罐、底部裝有泄廢液口 |
MFC 1范圍 |
0~100 sccm |
MFC 2和3 |
0~500 sccm |
進氣接口 |
1/4NPS |
出氣接口 |
1/4NPS |
水冷系統 |
|
水冷法蘭要求 |
水流量 >= 10L/M ,配有專業水冷機組 |
等離子射頻電源1臺、質子混氣系統1臺、雙旋機械泵1臺、水冷系統1臺、K型熱電偶1支、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套、不銹鋼爐鉤1、剛玉爐塞2對、高溫手套1副、剛玉坩堝2個、說明書1份
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主要產品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺車爐、退火爐、升降爐、微波燒結爐、烤瓷爐等標準及非標實驗電爐和工業電爐,并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
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